IT之家 7 月 15 日消息，阿斯麦公司当天发布通知，英特尔委托代工业务已在 Intel 18A 工艺节点，借助阿斯麦的 High NA EUV 光刻技术，实现部分 Intel Core Ultra Series 3（代号 Panther Lake）处理器的量产。这使得阿斯麦成为全球首家实现 High NA EUV 逻辑芯片大规模出货的企业。
阿斯麦与英特尔均表示，Intel 18A 的部分工艺层已经通过 High NA EUV 的双重认证，产品良率已经达到当前 NXE EUV 平台的水准，未来还将推动该技术在更多制程节点的部署。
2024 年，英特尔和阿斯麦在美国俄勒冈州希尔斯伯勒的联合研发中心，成功集成了全球首台商用 High NA EUV 光刻设备。英特尔也率先安装了并完成验收测试的第二代 TWINSCAN EXE:5200B 系统。该系统基于 TWINSCAN EXE:5000 改造而来，提升了生产效率与覆盖精度，同时也优化了光源表现。
IT之家今年 6 月曾报道，有传言称台积电现阶段不购置高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）设备。台积电董事长魏哲家在股东大会上直接回应，公司非但不减少投资，反而已购入相关设备，只是暂缓量产。他认为目前成本过高，现阶段生产无需 High-NA EUV 技术。台积电正着力控制成本，将在正式投产前，尽可能发挥高数值孔径 EUV 技术的价值。
